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全文共3140字，閱讀大約需要12分鐘1本文的應用背景盡管銅化學機械平坦化(CMP)已成為半導體制造業實現集成電路局部和全局平坦化的關鍵技術，但在阻擋層CMP過程中仍有一些問題需要克服，如有機殘留物、表面顆粒、蝶形缺陷、侵蝕和劃痕，其中，劃...

納米激光粒度分析儀，也稱為納米激光粒度儀或激光納米粒度儀，其工作原理基于顆粒在液體中的布朗運動及光散射現象。當單色激光照射到懸浮在液體中的納米粒子上時，粒子會散射光線。由于粒子在液體中做布朗運動，導致散射光的強度隨時間隨機波動。通過光電探測...

在線計數粒徑檢測儀是一種集自動進樣、自動稀釋、自動檢測、數據處理以及自動清洗等全自動檢測功能于一身的先進設備，它為用戶提供了方便、快捷、高效、可靠的粒徑分析解決方案。其原理主要基于光的散射或衍射現象，這些現象與顆粒的大小、形狀、折射率以及入...

不溶性微粒檢測儀是一種用于檢測液體中不溶性微粒大小和數量的重要分析儀器，主要采用光阻法或顯微計數法來檢測液體樣品中的不溶性微粒。光阻法是通過激光束照射樣本，利用散射光信號的強度和方向來確定微粒的數量和尺寸。顯微計數法則是通過顯微鏡觀察并計數...

磨料漿檢測儀是一種用于測量和分析磨料漿特性的專業設備。采用先進的測量技術和算法，通過持續滴定、自動排廢清洗等方式，實現對磨料漿的精確測量。同時，該設備還具備自動切斷冷凝水等功能，減少能源浪費和環境污染。其廣泛應用于石化工業、電力工業、航空造...

磨料漿檢測儀是一種用于測量和分析磨料漿特性的專業設備。采用先進的測量技術和算法，通過持續滴定、自動排廢清洗等方式，實現對磨料漿的精確測量。同時，該設備還具備自動切斷冷凝水等功能，減少能源浪費和環境污染。其廣泛應用于石化工業、電力工業、航空造...

高壓微射流均質機是一種先進的流體處理設備，基于動態高壓微射流技術。其工作原理是通過增壓器使物料在高壓作用下以高速流經微管通道，并進入微米級固定均質腔。物料流在此過程中受到高剪切力、高碰撞力、空穴效應等，從而獲得理想的均質結果。PSI研發的增...

在分析聚合物乳液的粒徑分布時，通常采用一種光散射方法。一般來說，光散射的方法分為兩類：靜態的和動態的。靜態光散射，也被稱為激光衍射，使用空間陣列探測器，記錄散射光的角度為a的函數。靜態光散射的原理是利用激光照射在一個非均勻介質中，由于光的波...