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納米激光粒度分析儀(奧法)

簡(jiǎn)要描述:納米激光粒度分析儀(奧法)是在原有的經(jīng)典型號(hào)380DLS基礎(chǔ)上升級(jí)配套而來(lái),采用雪崩二極管(APD)檢測(cè)器和大功率激光器,大功率激光器可以增加光強(qiáng)度,APD檢測(cè)器更是增加了對(duì)微小粒子所發(fā)出信號(hào)的探測(cè)能力。利用動(dòng)態(tài)光散射理論,粒徑檢測(cè)范圍 0.3nm – 10μm。其配套粒度分析軟件復(fù)合采用了高斯( Gaussian)單峰算法和 Nicomp 多峰

  • 更新時(shí)間:2025-02-27
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 訪  問(wèn)  量:12591
詳情介紹

Nicomp® 3000
納米激光粒度儀

動(dòng)態(tài)光散射儀

納米激光粒度分析儀(奧法)    

納米激光粒度分析儀(奧法)    

具有50+年歷史
專為復(fù)雜體系提供高精度粒度解析方案
助您探索納米宇宙的精微奧秘!

0.9°步進(jìn)型多角度(MADLS)真正的多角度模塊            

不同粒徑的納米粒子,尤其是粒徑遠(yuǎn)小于激光波長(zhǎng)的粒子在傳統(tǒng)的動(dòng)態(tài)光散射理論下,力度分布(PSD)會(huì)失去一些細(xì)節(jié)。Entegris(PSS)Nicomp® 3000 系列開(kāi)創(chuàng)性地配備了可以從14.4°-180°范圍內(nèi),步長(zhǎng)0.9°的多角度模塊,對(duì)特殊樣品(如極小粒徑)可以選用合適的角度進(jìn)行檢測(cè),顯著提高對(duì)復(fù)雜體系的分辨力。

納米激光粒度分析儀(奧法)        納米激光粒度分析儀(奧法)        

自動(dòng)稀釋模塊            

自動(dòng)稀釋模塊的引入降低了人工的試錯(cuò)成本,大大節(jié)省了實(shí)驗(yàn)室操作人員的時(shí)間成本,減少人工誤差。

納米激光粒度分析儀(奧法)        納米激光粒度分析儀(奧法)        

專有的Nicomp®多峰分布,可分辨1:2的多組分            

Entegris(PSS)Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法,可以有效區(qū)分不同粒徑(1:2的不同組分),為復(fù)雜體系和多組分體系提供了強(qiáng)有力的生產(chǎn)工具。

(下圖為同一復(fù)雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現(xiàn)的結(jié)果)

納米激光粒度分析儀(奧法)                    納米激光粒度分析儀(奧法)                    

高斯粒徑分布圖

納米激光粒度分析儀(奧法)                    納米激光粒度分析儀(奧法)                    

Nicomp®多峰粒徑分布圖


           

Entegris(PSS)Nicomp® 3000 系列在動(dòng)態(tài)光散射法上應(yīng)用了自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊,既可以有效避免人工稀釋所帶來(lái)的試錯(cuò)成本和誤差,更可以實(shí)現(xiàn)檢測(cè)的自動(dòng)化操作,為大批量的檢測(cè)提供了良好的解決方案。

納米激光粒度分析儀(奧法)        納米激光粒度分析儀(奧法)        

產(chǎn)品介紹
PRODUCT INTRODUCTION
   

Nicomp® N3000納米粒度分析儀/動(dòng)態(tài)光散射儀

檢測(cè)范圍

粒徑檢測(cè):0.3nm-10.0μm

應(yīng)用領(lǐng)域

醫(yī)藥領(lǐng)域蛋白、病毒、脂質(zhì)體、乳劑、膠束、納米晶、疫苗、納米載體、細(xì)胞等
化工領(lǐng)域墨水、顏料、高分子材料、化工染料、潤(rùn)滑劑、石油化工、量子等
半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻膠、CMP slurry、樹(shù)脂等
其他食品、飲料、化妝品等
納米激光粒度分析儀(奧法)            

MINI DLS在線納米激光粒度儀/在線動(dòng)態(tài)光散射儀

粒徑范圍20nm-2μm*
濃度0.1-10wt%
重復(fù)性±5%
檢測(cè)器PMT(光電倍增管)
激光波長(zhǎng)精確性±10%
檢測(cè)角度90°

無(wú)需校準(zhǔn)
*hydrodynamic radius,流體動(dòng)力學(xué)半徑

應(yīng)用領(lǐng)域

均質(zhì)機(jī)/研磨機(jī)下游的粒度控制
脂質(zhì)體和乳劑等納米制劑產(chǎn)品的生產(chǎn)監(jiān)控
CMP漿料(研磨液)的磨損監(jiān)控
納米先進(jìn)材料生產(chǎn)過(guò)程中粒度監(jiān)控

納米激光粒度分析儀(奧法)            

儀器原理
PRINCIPLE
   

動(dòng)態(tài)光散射方法(Dynamic Light Scattering)原理示意圖

納米激光粒度分析儀(奧法)                    納米激光粒度分析儀(奧法)    

布朗運(yùn)動(dòng)的一個(gè)重要特點(diǎn)是:小粒子運(yùn)動(dòng)快速,大顆粒運(yùn)動(dòng)緩慢。由于粒子在不停地運(yùn)動(dòng),散射光斑也將出現(xiàn)移動(dòng)。由于粒子四處運(yùn)動(dòng),散射光的相位疊加,將引起光亮區(qū)域和黑暗區(qū)域呈光強(qiáng)方式增加和減少或以另一種方式表達(dá),光強(qiáng)也成波動(dòng)形式。即:粒子的布朗運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致光強(qiáng)的波動(dòng)。

納米激光粒度分析儀(奧法)                納米激光粒度分析儀(奧法)    

通過(guò)拉普拉斯逆轉(zhuǎn)換,將光信號(hào)轉(zhuǎn)換成指數(shù)光譜的形式進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,將雜亂無(wú)章的波動(dòng)曲線轉(zhuǎn)換成有規(guī)則的自相關(guān)C(t)函數(shù)曲線。

通過(guò)自相關(guān)C(t)函數(shù)曲線得到衰變常數(shù)τ,通過(guò)下面公示得到擴(kuò)散系數(shù)D;

1/τ= 2DK2 (K是散射光波矢量,是一個(gè)常數(shù))

最后在通過(guò) Stokes-Einstein 方程,得到粒徑大小R:

納米激光粒度分析儀(奧法)    

公式中:
K = 玻爾茲曼常數(shù);
T = 絕對(duì)溫度;
h = 溶液的剪切粘度;
R = 粒子大小的半徑;
D = 擴(kuò)散系數(shù);

納米激光粒度分析儀(奧法)            

Nicomp® 3000系列設(shè)備檢測(cè)原理圖

Nicomp® 3000系列納米激光粒度儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析樣品的粒度分布?;诙嗥绽针娪竟馍⑸湓恚―oppler Electrophoretic Light Scattering,ELS)檢測(cè)ZETA電位。其主要用于檢測(cè)納米級(jí)別及微米級(jí)別的體系,粒徑檢測(cè)范圍0.3nm-10μm,ZETA電位檢測(cè)范圍為±500mV。動(dòng)態(tài)光散射方法(DLS)從傳統(tǒng)的光散射理論中分離,關(guān)注瑞利散射區(qū)的小顆粒,主要用于檢測(cè)納米級(jí)別的分散體系。動(dòng)態(tài)光散射是通過(guò)光強(qiáng)值的波動(dòng)得到自相關(guān)函數(shù),從而獲得衰減時(shí)間常量τ,進(jìn)而計(jì)算獲得粒子的擴(kuò)散速度D(Diffusion Coefficient,擴(kuò)散系數(shù)),代入Stokes-Einstein方程式,就可以計(jì)算得到顆粒的半徑。

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
PRODUCT HIGHLIGHT
   

0.9°步進(jìn)型多角度(MADLS)真正的多角度模塊

不同粒徑的納米粒子,尤其是粒徑遠(yuǎn)小于激光波長(zhǎng)的粒子在傳統(tǒng)的動(dòng)態(tài)光散射理論下,力度分布(PSD)會(huì)失去一些細(xì)節(jié)。Entegris(PSS)Nicomp® 3000 系列開(kāi)創(chuàng)性地配備了可以從14.4°-180°范圍內(nèi),步長(zhǎng)0.9°的多角度模塊,對(duì)特殊樣品(如極小粒徑)可以選用合適的角度進(jìn)行檢測(cè),顯著提高對(duì)復(fù)雜體系的分辨力。

納米激光粒度分析儀(奧法)    

專有的Nicomp®多峰分布,可分辨1:2的多組分

Entegris(PSS)Nicomp® 3000系列搭載了Nicomp®多峰算法,可以有效區(qū)分不同粒徑(1:2的不同組分),為復(fù)雜體系和多組分體系提供了強(qiáng)有力的生產(chǎn)工具。
(下圖為同一復(fù)雜體系樣品分別在高斯算法和Nicomp®算法所呈現(xiàn)的結(jié)果)

納米激光粒度分析儀(奧法)                

高斯粒徑分布圖

納米激光粒度分析儀(奧法)                

Nicomp®多峰粒徑分布圖

超高分辨率的納米檢測(cè)精度

通過(guò)蛋白質(zhì)樣品的測(cè)試,Nicomp® 納米激光粒度儀對(duì)于小于10nm的粒子,依然顯示超高的分辨率和準(zhǔn)確度。Nicomp® 納米激光粒度儀的這種超高分辨率可以有效幫助研究人員更準(zhǔn)確更真實(shí)的檢測(cè)出樣品粒度分布。

如下圖,蛋白質(zhì)單聚體的粒徑大小為1.7nm

納米激光粒度分析儀(奧法)            

蛋白質(zhì)雙聚體的理論粒徑大小為1.7nm的兩倍3.4nm。Nicomp®  3000系列測(cè)得的結(jié)果為2.9nm左右。這個(gè)數(shù)值符合實(shí)際粒徑大小。

納米激光粒度分析儀(奧法)            

針對(duì)更復(fù)雜的四聚體,其理論粒徑為單聚體的4倍6.8nm。Nicomp® 3000系列測(cè)得的結(jié)果為5.7nm。這個(gè)數(shù)值符合實(shí)際粒徑大小。

納米激光粒度分析儀(奧法)            
納米激光粒度分析儀(奧法)                

將上述3個(gè)數(shù)據(jù)疊加,我們可以清晰地看到在10nm以下仍然能得到粒徑相差很小的3個(gè)峰,顯示Nicomp® 3000系列儀器有超高的分辨率和靈敏度。

自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊,減少試錯(cuò)成本和人工誤差

Entegris(PSS)Nicomp® 3000 系列在動(dòng)態(tài)光散射法上應(yīng)用了自動(dòng)稀釋模塊和自動(dòng)進(jìn)樣模塊,既可以有效避免人工稀釋所帶來(lái)的試錯(cuò)成本和誤差,更可以實(shí)現(xiàn)檢測(cè)的自動(dòng)化操作,為大批量的檢測(cè)提供了良好的解決方案。

納米激光粒度分析儀(奧法)            

Multiple sample trays available

3×7 samples-30mm tube(50mL)
4×10 samples-20mm tube(20mL)
5×12 samples-16mm tube(14mL)
6×15 samples-13mm tube(7mL)

軟件工作站
SOFTWARE WORKSTATION
   

全面的權(quán)限管理

靈活設(shè)置用戶管理權(quán)限,增加安全性??稍O(shè)置密碼復(fù)雜度,自動(dòng)登出時(shí)間,密碼修改時(shí)限,滿足CSV計(jì)算機(jī)系統(tǒng)驗(yàn)證。

納米激光粒度分析儀(奧法)            

1.用戶管理
2.允許編輯測(cè)樣方法
3.數(shù)據(jù)庫(kù)管理
4.鏈接驅(qū)動(dòng)
4.允許用戶用儀器測(cè)量樣品
5.對(duì)主機(jī)中固件更新(工程師權(quán)限)
6.密碼權(quán)限設(shè)置
7.可看、輸出、更改數(shù)據(jù)自動(dòng)備份位置
8.更改重新計(jì)算測(cè)試數(shù)據(jù)
9.導(dǎo)入曲線
10.曲線校準(zhǔn)(不對(duì)用戶開(kāi)放)
11.增加減少報(bào)告模板
12.允許打印或?qū)С鰣?bào)告
13.刪除測(cè)樣數(shù)據(jù)(僅軟件界面看不到,數(shù)據(jù)庫(kù)數(shù)據(jù)依然存在,并可還原)
14. 刪除測(cè)樣數(shù)據(jù)
15. 刪除報(bào)告
16. 刪除文件

完整的審計(jì)追蹤

具備詳細(xì)的審計(jì)追蹤記錄,支持日志導(dǎo)出打印,記錄用戶登錄期間所有操作,可根據(jù)操作類型、時(shí)間、項(xiàng)目等檢索。

納米激光粒度分析儀(奧法)    

多種數(shù)據(jù)備份方式

數(shù)據(jù)備份支持手動(dòng)、自動(dòng)備份到文件路徑。備份內(nèi)容包含完整數(shù)據(jù)內(nèi)容、操作方法、審計(jì)追蹤記錄日志等。

納米激光粒度分析儀(奧法)    

軟件測(cè)試界面

簡(jiǎn)潔明了,支持不同權(quán)重,不同分析模型實(shí)時(shí)切換,可快速查詢不同指標(biāo)。

納米激光粒度分析儀(奧法)    

儀器參數(shù)
INSTRUMENT SPECIFICATION

Nicomp® N3000納米粒度儀/動(dòng)態(tài)光散射儀                
配置                Standard                Pro                Plus                Ultimate                
溫度范圍0°C~90°C(±0.1°C控溫精度,無(wú)冷凝)
激光光源固體激光器
激光功率                15mW                35mW                35mW                35mW                
PH值范圍1~14
粒度
分析方法動(dòng)態(tài)光散射,Gaussian分布和Nicomp多峰分布
檢測(cè)范圍0.3nm~10μm
最小樣品量10μL
最大濃度40%w/v
測(cè)量角度90°90°多角度(14.4°~180°,包含90°,步進(jìn)0.9°)
分子量342-2*107 Da
附件
檢測(cè)器PMT(光電倍增管)APD(雪崩二極管)APD(雪崩二極管)APD(雪崩二極管)
樣品池                                                                
科研版軟件                                                                
21 CFR Part11軟件                                                                
多角度檢測(cè)模塊/                /                                                
自動(dòng)進(jìn)樣模塊/                /                /                                
自動(dòng)稀釋模塊/                /                /                                
尺寸56cm*4lcm*24cm
重量約26kg(與配置相關(guān))

注:以實(shí)際樣品為準(zhǔn)                標(biāo)配,隨箱自帶選配,單獨(dú)購(gòu)買(mǎi)                


   


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